退火爐是一種用于制造半導體器件的工藝，它包括對多個半導體晶片進行加熱以影響它們的電性能。對不同的效果設計了熱處理工藝�？赏ㄟ^加熱晶片來激活摻雜劑，將薄膜轉變為薄膜或將薄膜轉變為晶片基體界面，從而形成致密的薄膜，改變生長薄膜的狀態，修復注入的損傷，將摻雜劑從一層轉移到另一層，或將摻雜劑從一層轉移到薄膜或從薄膜進入晶片基體。退火爐可以被整合到其他的處理步驟中，比如氧化，或者可以自己處理。退火爐是由專門設計用于加熱半導體晶片的設備組成。退火爐為節能循環操作爐，結構超節能，采用纖維結構，節電60%。
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